導(dǎo)讀：12月20日，中芯國(guó)際公告稱，已經(jīng)獲知公司被美國(guó)商務(wù)部列入“實(shí)體清單”，將對(duì)設(shè)備進(jìn)口、10nm及以下工藝及代工客戶產(chǎn)生不利影響。

  

圖：中芯國(guó)際公告

這是繼9月5日被列入貿(mào)易“黑名單”和傳出聯(lián)席CEO 梁孟松博士請(qǐng)辭以來(lái)，中芯國(guó)際的至暗時(shí)刻。

實(shí)際上，如芯片大師在關(guān)于中芯國(guó)際和梁博士去留的幾點(diǎn)思考一文中提及的，由于此前美國(guó)對(duì)中芯國(guó)際及相關(guān)國(guó)內(nèi)企業(yè)的實(shí)質(zhì)限制，在有限的軟件、設(shè)備和技術(shù)團(tuán)隊(duì)前提下，基本策略是兵分兩路：一是穩(wěn)定成熟制程產(chǎn)品，加快推進(jìn)并投產(chǎn)至少一條成熟的去美化產(chǎn)線，另一方面在上游取得突破前，暫時(shí)從先進(jìn)制程中抽身，保持預(yù)研的同時(shí)避免被高額投入拖垮。

  

來(lái)源：中芯國(guó)際

由此，我們得出兩個(gè)基本判斷，一是中國(guó)大陸的7nm及以下先進(jìn)工藝將暫時(shí)停留在研發(fā)階段，夯實(shí)90nm-14nm的主陣地、“查漏補(bǔ)缺”對(duì)于國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體制造業(yè)的長(zhǎng)期發(fā)展更為重要，同時(shí)特色工藝、第三代半導(dǎo)體都是有機(jī)會(huì)追趕甚至建立局部?jī)?yōu)勢(shì)的領(lǐng)域。

作為傳統(tǒng)制造業(yè)產(chǎn)能?chē)?yán)重過(guò)剩的國(guó)家，大陸代工產(chǎn)能的不足在這次晶圓漲價(jià)潮中體現(xiàn)得淋漓盡致。普通的MOS、電源IC、模擬芯片最常用的6寸、8寸線尚且要看國(guó)際廠商開(kāi)工情況，過(guò)度追求動(dòng)輒百億美元投入的先進(jìn)工藝線無(wú)疑是鏡花水月。

  

來(lái)源：中芯國(guó)際

如上圖，MCU、CIS和汽車(chē)芯片領(lǐng)域的許多國(guó)際IDM巨頭均利用成熟工藝制造出差異化、有競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品，而國(guó)內(nèi)業(yè)者嚴(yán)重缺乏制造技術(shù)的積累。

二是產(chǎn)業(yè)重心將全面轉(zhuǎn)向去美化、國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程，此舉固然拖慢國(guó)內(nèi)廠商追求先進(jìn)工藝的腳步，但有助于從根源上解決產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)問(wèn)題，是對(duì)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料、EDA和設(shè)備產(chǎn)業(yè)的巨大利好。

同時(shí)，去美化不代表從零開(kāi)始、100%自主研發(fā)，半導(dǎo)體是國(guó)際化最徹底的行業(yè)，逐步引入相對(duì)可控的日韓和歐洲供應(yīng)商產(chǎn)品、技術(shù)是明智之舉。以下引入一位業(yè)內(nèi)人士的推測(cè)：

1、正常的晶圓廠 = 25%歐洲光刻機(jī) + 50%美國(guó)（刻蝕機(jī)、PVD等） + 25%日本（刻蝕、沉積）

2、去美化的晶圓廠 = 25%歐洲光刻機(jī) + 50%日本（刻蝕機(jī)、PVD等） + 25%中國(guó)大陸（刻蝕、PVD、清洗、氧化等）

20年風(fēng)雨芯路，實(shí)體清單不會(huì)是中芯國(guó)際的終點(diǎn)，而更有可能是另一個(gè)起點(diǎn)，而華為、DJI們也正一同步入“南泥灣”。

半導(dǎo)體是宏大的產(chǎn)業(yè)，需要偉大的國(guó)家、海量的資金和人才前赴后繼，江湖路遠(yuǎn)，是對(duì)手遲早會(huì)見(jiàn)面的。