日經(jīng):中國企業(yè)擬與尼康、佳能共同開發(fā)光刻機
2020-10-12 18:00:55閱讀量:412來源:芯片大師
導(dǎo)讀:日經(jīng)10月12日刊文指出,美國的技術(shù)封鎖可能會助推中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自立與發(fā)展,有消息稱中日有望合作開發(fā)光刻機。
報道以美國限制華為、中芯國際的供應(yīng)鏈為例指出,盡管有美國政府的出口限制,但中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)仍可迂回以對。
中國有1000多家新興的半導(dǎo)體相關(guān)公司,如果華為和中芯國際從這些公司購買進口的半導(dǎo)體芯片、設(shè)計軟件以及生產(chǎn)設(shè)備,實際上就可以進行半導(dǎo)體采購并擴充制造設(shè)備。
對此,Synopsys共同執(zhí)行長Aart de Geus表示,“在中國有很多半導(dǎo)體相關(guān)企業(yè)(除華為外)都在大量購買(設(shè)計軟件)。”這種情況意味著無法避免中國國內(nèi)的轉(zhuǎn)售。
另外,日經(jīng)指出,聯(lián)發(fā)科對美國的銷售額很少,該公司現(xiàn)在雖已停止對華為出貨,但也有可能會繼續(xù)接受華為的訂單并準(zhǔn)備接受美國制裁。聯(lián)發(fā)科可以在不透露最終用戶詳細信息的情況下進行訂單生產(chǎn),臺積電同樣可以。
更重要的是,與芯片平面上的精細化相比,3D堆疊技術(shù)正在成為延續(xù)摩爾定律的主角?;诖?,光刻機已然成為影響全球科技競爭的又一大重大因素。
目前,全世界只有荷蘭的ASML可以制造EUV光刻機。而大部分基礎(chǔ)技術(shù)的知識產(chǎn)權(quán)都由美國把持,因此荷蘭政府此前宣布不允許ASML向中國出口EUV設(shè)備。
不過,若是EUV以外的光刻機,日本的尼康和佳能也可以制造。業(yè)界有關(guān)人士向日經(jīng)表示:“中國企業(yè)擬向兩家日本公司提供資金,要求共同開發(fā)除EUV以外的新型光刻機?!贝送猓袊查_始著手開發(fā)制造設(shè)備和設(shè)計軟件。
L7805CV-DG/線性穩(wěn)壓器(LDO) | 0.5401 | |
AMS1117-3.3/線性穩(wěn)壓器(LDO) | 0.1237 | |
BAT54C,215/肖特基二極管 | 0.0336 | |
LM358DR2G/運算放大器 | 0.345 | |
CJ431/電壓基準(zhǔn)芯片 | 0.1157 | |
LM393DR2G/比較器 | 0.3143 | |
ADUM4160BRWZ-RL/隔離式USB芯片 | 34.83 | |
REF3012AIDBZR/電壓基準(zhǔn)芯片 | 0.9316 | |
SS8050/三極管(BJT) | 0.035 | |
8S005/錫膏/錫漿 | 17.67 |