導(dǎo)讀：據(jù)快科技報(bào)道，光刻機(jī)巨頭ASML（阿斯麥）日前宣布，將在中國(guó)臺(tái)灣的南部科學(xué)園區(qū)建立自己在海外（荷蘭之外）的首個(gè)培訓(xùn)中心，旨在就近輔導(dǎo)臺(tái)積電的EUV光刻制造集群。

所謂EUV即極紫外光刻，目前全球有且只有ASML可以生產(chǎn)相關(guān)機(jī)器。光刻是半導(dǎo)體芯片制造中最費(fèi)時(shí)間也是最費(fèi)成本的環(huán)節(jié)之一，而且它決定了芯片的工藝水平，常說的XXnm工藝主要是看光刻機(jī)水平。

臺(tái)積電的第一代7nm因?yàn)橼s進(jìn)度，沒有使用EUV，而是DUV（深紫外光刻），不過隨著7nm的改良以及5nm量產(chǎn)、3nm風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)的進(jìn)行，EUV開始更多導(dǎo)入。

ASML今年二季度的財(cái)報(bào)顯示，雖然僅僅出貨了9臺(tái)光刻機(jī)，但凈利潤(rùn)高達(dá)7.51億歐元。畢竟，一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)就達(dá)到約合10億元人民幣左右。

另外，TrendForce數(shù)據(jù)顯示，今年第一季度，臺(tái)積電營(yíng)收102億美元，幾乎是第二名三星代工業(yè)務(wù)的4倍。